ਗ੍ਰਾਫੀਨ / ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਰੀਇਨਫੋਰਸਡ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 'ਤੇ ਅਧਿਐਨ

1. ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਤਿਆਰੀ
ਬਾਅਦ ਦੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਟੈਸਟ ਦੀ ਸਹੂਲਤ ਲਈ, 30mm × 4 mm 304 ਸਟੀਲ ਨੂੰ ਅਧਾਰ ਵਜੋਂ ਚੁਣਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਬਚੀ ਆਕਸਾਈਡ ਪਰਤ ਅਤੇ ਜੰਗਾਲ ਦੇ ਧੱਬਿਆਂ ਨੂੰ ਸੈਂਡਪੇਪਰ ਨਾਲ ਪਾਲਿਸ਼ ਕਰੋ ਅਤੇ ਹਟਾਓ, ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਐਸੀਟੋਨ ਵਾਲੇ ਬੀਕਰ ਵਿੱਚ ਪਾਓ, 20 ਮਿੰਟ ਲਈ ਬੈਂਗਜੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ ਕੰਪਨੀ ਦੇ bg-06c ਅਲਟਰਾਸੋਨਿਕ ਕਲੀਨਰ ਨਾਲ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਧੱਬਿਆਂ ਦਾ ਇਲਾਜ ਕਰੋ, ਹਟਾਓ। ਅਲਕੋਹਲ ਅਤੇ ਡਿਸਟਿਲਡ ਪਾਣੀ ਨਾਲ ਮੈਟਲ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਪਹਿਨਣ ਵਾਲੇ ਮਲਬੇ ਨੂੰ, ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਨੂੰ ਬਲੋਅਰ ਨਾਲ ਸੁਕਾਓ।ਫਿਰ, ਐਲੂਮਿਨਾ (Al2O3), ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਅਤੇ ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ (mwnt-coohsdbs) ਅਨੁਪਾਤ (100: 0: 0, 99.8: 0.2: 0, 99.8: 0: 0.2, 99.6: 0.2: 0.2) ਵਿੱਚ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ, ਅਤੇ ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਅਤੇ ਮਿਕਸਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਬਾਲ ਮਿੱਲ (ਨੈਨਜਿੰਗ ਨੰਦਾ ਇੰਸਟਰੂਮੈਂਟ ਫੈਕਟਰੀ ਦਾ qm-3sp2)।ਬਾਲ ਮਿੱਲ ਦੀ ਘੁੰਮਣ ਦੀ ਗਤੀ ਨੂੰ 220 ਆਰ / ਮਿੰਟ 'ਤੇ ਸੈੱਟ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ, ਅਤੇ ਬਾਲ ਮਿੱਲ ਨੂੰ ਮੋੜ ਦਿੱਤਾ ਗਿਆ ਸੀ

ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਪੂਰੀ ਹੋਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਟੈਂਕ ਦੀ ਰੋਟੇਸ਼ਨ ਸਪੀਡ ਨੂੰ 1/2 ਵਿਕਲਪਿਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੈੱਟ ਕਰੋ, ਅਤੇ ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਪੂਰੀ ਹੋਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਬਾਲ ਮਿਲਿੰਗ ਟੈਂਕ ਦੀ ਰੋਟੇਸ਼ਨ ਸਪੀਡ ਨੂੰ 1 / 2 ਸੈੱਟ ਕਰੋ।1.0 ∶ 0.8 ਦੇ ਪੁੰਜ ਫਰੈਕਸ਼ਨ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ ਬਾਲ ਮਿੱਲਡ ਸਿਰੇਮਿਕ ਐਗਰੀਗੇਟ ਅਤੇ ਬਾਈਂਡਰ ਨੂੰ ਬਰਾਬਰ ਮਿਲਾ ਦਿੱਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਅੰਤ ਵਿੱਚ, ਚਿਪਕਣ ਵਾਲੀ ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਰਤ ਨੂੰ ਠੀਕ ਕਰਨ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ.

2. ਖੋਰ ਟੈਸਟ
ਇਸ ਅਧਿਐਨ ਵਿੱਚ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋ ਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਟੈਸਟ ਸ਼ੰਘਾਈ ਚੇਨਹੂਆ chi660e ਇਲੈਕਟ੍ਰੋ ਕੈਮੀਕਲ ਵਰਕਸਟੇਸ਼ਨ ਨੂੰ ਅਪਣਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਟੈਸਟ ਇੱਕ ਤਿੰਨ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਟੈਸਟ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਨੂੰ ਅਪਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਪਲੈਟੀਨਮ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਸਹਾਇਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਹੈ, ਸਿਲਵਰ ਸਿਲਵਰ ਕਲੋਰਾਈਡ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਹਵਾਲਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੋਟੇਡ ਨਮੂਨਾ ਕਾਰਜਸ਼ੀਲ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਹੈ, 1cm2 ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵੀ ਐਕਸਪੋਜ਼ਰ ਖੇਤਰ ਦੇ ਨਾਲ।ਸੰਦਰਭ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ, ਵਰਕਿੰਗ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਅਤੇ ਸਹਾਇਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਸੈੱਲ ਵਿੱਚ ਯੰਤਰ ਨਾਲ ਕਨੈਕਟ ਕਰੋ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 1 ਅਤੇ 2 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਟੈਸਟ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ, ਨਮੂਨੇ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਭਿਓ ਦਿਓ, ਜੋ ਕਿ 3.5% NaCl ਘੋਲ ਹੈ।

3. ਕੋਟਿੰਗਜ਼ ਦੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਦਾ ਟੈਫੇਲ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ
ਚਿੱਤਰ 3 19 ਘੰਟੇ ਲਈ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋ ਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਨੈਨੋ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਨਾਲ ਲੇਪ ਕੀਤੇ ਅਨਕੋਏਟਿਡ ਸਬਸਟਰੇਟ ਅਤੇ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਟੈਫੇਲ ਕਰਵ ਨੂੰ ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਟੈਸਟ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਖੋਰ ਵੋਲਟੇਜ, ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਇਮਪੀਡੈਂਸ ਟੈਸਟ ਡੇਟਾ ਸਾਰਣੀ 1 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ।

ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰੋ
ਜਦੋਂ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਛੋਟੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਵੱਧ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਤਾਂ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਪ੍ਰਭਾਵ ਬਿਹਤਰ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਚਿੱਤਰ 3 ਅਤੇ ਸਾਰਣੀ 1 ਤੋਂ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਜਦੋਂ ਖੋਰ ਦਾ ਸਮਾਂ 19h ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਬੇਅਰ ਮੈਟਲ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਖੋਰ ਵੋਲਟੇਜ -0.680 V ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਵੀ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਡੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, 2.890 × 10-6 A ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਦੀ ਹੈ। /cm2 . ਜਦੋਂ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਨਾਲ ਲੇਪ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਘਟ ਕੇ 78% ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ PE 22.01% ਸੀ।ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਵਸਰਾਵਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਇੱਕ ਬਿਹਤਰ ਸੁਰੱਖਿਆਤਮਕ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਨਿਰਪੱਖ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।

ਜਦੋਂ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ 0.2% mwnt-cooh-sdbs ਜਾਂ 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਸ਼ਾਮਲ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ, ਤਾਂ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਘਟ ਗਈ, ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਧਿਆ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਹੋਰ ਸੁਧਾਰਿਆ ਗਿਆ, 38.48% ਅਤੇ 40.10% ਦੇ PE ਦੇ ਨਾਲ।ਜਦੋਂ ਸਤ੍ਹਾ ਨੂੰ 0.2% mwnt-cooh-sdbs ਅਤੇ 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਮਿਕਸਡ ਐਲੂਮਿਨਾ ਕੋਟਿੰਗ ਨਾਲ ਕੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ 2.890 × 10-6 A / cm2 ਤੋਂ 1.536 × 10-6 A / cm2 ਤੱਕ ਘੱਟ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਵਿਰੋਧ ਮੁੱਲ, 11388 Ω ਤੋਂ 28079 Ω ਤੱਕ ਵਧਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ PE 46.85% ਤੱਕ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦਾ ਹੈ।ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਟੀਚੇ ਵਾਲੇ ਉਤਪਾਦ ਵਿੱਚ ਵਧੀਆ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ, ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦਾ ਸਹਿਯੋਗੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਵਸਰਾਵਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।

4. ਕੋਟਿੰਗ ਰੁਕਾਵਟ 'ਤੇ ਭਿੱਜਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦਾ ਪ੍ਰਭਾਵ
ਪਰਤ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੀ ਹੋਰ ਪੜਚੋਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਟੈਸਟ 'ਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਨਮੂਨੇ ਦੇ ਡੁੱਬਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਨੂੰ ਧਿਆਨ ਵਿੱਚ ਰੱਖਦੇ ਹੋਏ, ਵੱਖ-ਵੱਖ ਇਮਰਸ਼ਨ ਸਮੇਂ 'ਤੇ ਚਾਰ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੇ ਬਦਲਾਵ ਵਕਰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। 4.

ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰੋ
ਇਮਰਸ਼ਨ ਦੇ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਪੜਾਅ 'ਤੇ (10 ਘੰਟੇ), ਪਰਤ ਦੀ ਚੰਗੀ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਬਣਤਰ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਇਲੈਕਟੋਲਾਈਟ ਨੂੰ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਡੁਬੋਣਾ ਮੁਸ਼ਕਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਇਸ ਸਮੇਂ, ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਰਤ ਉੱਚ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ.ਕੁਝ ਸਮੇਂ ਲਈ ਭਿੱਜਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ, ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਕਾਫ਼ੀ ਘੱਟ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਕਿਉਂਕਿ ਸਮੇਂ ਦੇ ਬੀਤਣ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਲੈਕਟੋਲਾਈਟ ਹੌਲੀ-ਹੌਲੀ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਪੋਰਸ ਅਤੇ ਚੀਰ ਦੁਆਰਾ ਇੱਕ ਖੋਰ ਚੈਨਲ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਕਮੀ ਆਉਂਦੀ ਹੈ। ਪਰਤ.

ਦੂਜੇ ਪੜਾਅ ਵਿੱਚ, ਜਦੋਂ ਖੋਰ ਉਤਪਾਦ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਤ ਮਾਤਰਾ ਵਿੱਚ ਵਧਦੇ ਹਨ, ਫੈਲਣ ਨੂੰ ਬਲੌਕ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਪਾੜੇ ਨੂੰ ਹੌਲੀ ਹੌਲੀ ਬਲੌਕ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਇਸ ਦੇ ਨਾਲ ਹੀ, ਜਦੋਂ ਇਲੈਕਟੋਲਾਈਟ ਬਾਂਡਿੰਗ ਹੇਠਲੀ ਪਰਤ/ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੇ ਬੰਧਨ ਇੰਟਰਫੇਸ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਪਾਣੀ ਦੇ ਅਣੂ ਇੱਕ ਪਤਲੀ ਧਾਤੂ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੋਟਿੰਗ/ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਜੰਕਸ਼ਨ 'ਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਵਿੱਚ Fe ਤੱਤ ਦੇ ਨਾਲ ਪ੍ਰਤੀਕਿਰਿਆ ਕਰਨਗੇ, ਜੋ ਰੁਕਾਵਟ ਬਣਾਉਂਦੇ ਹਨ। ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦਾ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮੁੱਲ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਜਦੋਂ ਬੇਅਰ ਮੈਟਲ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮਿਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਖਰਾਬ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਜ਼ਿਆਦਾਤਰ ਹਰੇ ਫਲੋਕੁਲੈਂਟ ਵਰਖਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਤਲ 'ਤੇ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਕੋਟੇਡ ਨਮੂਨੇ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਜ਼ ਕਰਦੇ ਸਮੇਂ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਘੋਲ ਨੇ ਰੰਗ ਨਹੀਂ ਬਦਲਿਆ, ਜੋ ਉਪਰੋਕਤ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ ਨੂੰ ਸਾਬਤ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ।

ਥੋੜ੍ਹੇ ਭਿੱਜਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਅਤੇ ਵੱਡੇ ਬਾਹਰੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਕਾਰਕਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਪੈਰਾਮੀਟਰਾਂ ਦੇ ਸਹੀ ਪਰਿਵਰਤਨ ਸਬੰਧ ਨੂੰ ਹੋਰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ, 19 h ਅਤੇ 19.5 h ਦੇ ਟੈਫੇਲ ਕਰਵ ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਜ਼ਸਿਮਪਵਿਨ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਸੌਫਟਵੇਅਰ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਸਾਰਣੀ 2 ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਇਹ ਪਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਜਦੋਂ 19 ਘੰਟੇ ਲਈ ਭਿੱਜਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਬੇਅਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਨੈਨੋ ਐਡਿਟਿਵ ਸਮੱਗਰੀ ਵਾਲੀ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਅਤੇ ਐਲੂਮਿਨਾ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਛੋਟਾ ਅਤੇ ਵਿਰੋਧ ਮੁੱਲ ਵੱਡਾ ਹੈ।ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਵਾਲੀ ਵਸਰਾਵਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮੁੱਲ ਲਗਭਗ ਇੱਕੋ ਜਿਹਾ ਹੈ, ਜਦੋਂ ਕਿ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਮਿਸ਼ਰਿਤ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਨਾਲ ਪਰਤ ਬਣਤਰ ਵਿੱਚ ਕਾਫ਼ੀ ਵਾਧਾ ਹੋਇਆ ਹੈ, ਇਹ ਇਸ ਲਈ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਇੱਕ-ਅਯਾਮੀ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਅਤੇ ਦੋ-ਅਯਾਮੀ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦਾ ਸਹਿਯੋਗੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰਦਾ ਹੈ.

ਡੁੱਬਣ ਦੇ ਸਮੇਂ (19.5 h) ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਬੇਅਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦਾ ਵਿਰੋਧ ਵਧਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਇਹ ਖੋਰ ਦੇ ਦੂਜੇ ਪੜਾਅ ਵਿੱਚ ਹੈ ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਮੈਟਲ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦੀ ਹੈ।ਇਸੇ ਤਰ੍ਹਾਂ, ਸਮੇਂ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵੀ ਵਧਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਇਸ ਸਮੇਂ, ਹਾਲਾਂਕਿ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਹੌਲੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਕੋਟਿੰਗ / ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੇ ਬੰਧਨ ਇੰਟਰਫੇਸ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੋ ਗਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਪੈਦਾ ਕੀਤੀ ਹੈ। ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੁਆਰਾ.
0.2% mwnt-cooh-sdbs ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਕੋਟਿੰਗ, 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਕੋਟਿੰਗ ਅਤੇ 0.2% mwnt-cooh-sdbs ਅਤੇ 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਸਮੇਂ ਦੇ ਵਾਧੇ ਨਾਲ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ ਘਟਿਆ, ਘਟਿਆ। ਕ੍ਰਮਵਾਰ 22.94%, 25.60% ਅਤੇ 9.61% ਦੁਆਰਾ, ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਇਲੈਕਟੋਲਾਈਟ ਇਸ ਸਮੇਂ ਕੋਟਿੰਗ ਅਤੇ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਦੇ ਜੋੜਾਂ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨਹੀਂ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਇਹ ਇਸ ਲਈ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨੂੰ ਰੋਕਦੀ ਹੈ, ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਸੁਰੱਖਿਆ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ.ਦੋਵਾਂ ਦੇ ਸਹਿਯੋਗੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਹੋਰ ਪੁਸ਼ਟੀ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ।ਦੋ ਨੈਨੋ ਸਮੱਗਰੀ ਵਾਲੀ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਬਿਹਤਰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

ਟੈਫੇਲ ਕਰਵ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਇਮਪੀਡੈਂਸ ਵੈਲਯੂ ਦੇ ਪਰਿਵਰਤਨ ਕਰਵ ਦੁਆਰਾ, ਇਹ ਪਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ ਕਿ ਗ੍ਰਾਫੀਨ, ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ਨਾਲ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਧਾਤ ਦੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਦੋਵਾਂ ਦਾ ਸਹਿਯੋਗੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਖੋਰ ਨੂੰ ਹੋਰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਿਚਪਕਣ ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਰਤ ਦਾ ਵਿਰੋਧ.ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 'ਤੇ ਨੈਨੋ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਹੋਰ ਪੜਚੋਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਪਰਤ ਦੀ ਸੂਖਮ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਨੂੰ ਦੇਖਿਆ ਗਿਆ ਸੀ।

ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰੋ

ਚਿੱਤਰ 5 (A1, A2, B1, B2) ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਵਿਸਤਾਰ 'ਤੇ ਐਕਸਪੋਜ਼ਡ 304 ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਅਤੇ ਕੋਟੇਡ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਵਸਰਾਵਿਕ ਦੀ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਚਿੱਤਰ 5 (A2) ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਖੋਰ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤ੍ਹਾ ਖੁਰਦਰੀ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਬੇਅਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਲਈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਡੁੱਬਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਕਈ ਵੱਡੇ ਖੋਰ ਟੋਏ ਦਿਖਾਈ ਦਿੰਦੇ ਹਨ, ਜੋ ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਬੇਅਰ ਮੈਟਲ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਘੱਟ ਹੈ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਕਰਨਾ ਆਸਾਨ ਹੈ।ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 5 (ਬੀ 2) ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਹਾਲਾਂਕਿ ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਖੋਰ ਵਾਲੇ ਖੋਰ ਚੈਨਲ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਸੰਘਣੀ ਬਣਤਰ ਅਤੇ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਪ੍ਰਭਾਵੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਹਮਲੇ ਨੂੰ ਰੋਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਇਸ ਦਾ ਕਾਰਨ ਦੱਸਦਾ ਹੈ। ਐਲੂਮਿਨਾ ਵਸਰਾਵਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਅੜਿੱਕੇ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਸੁਧਾਰ.

ਜਮ੍ਹਾਂ ਕਰੋ

mwnt-cooh-sdbs ਦੀ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ, 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਅਤੇ 0.2% mwnt-cooh-sdbs ਅਤੇ 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ।ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 6 (B2 ਅਤੇ C2) ਵਿੱਚ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਦੋ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੀ ਸਮਤਲ ਬਣਤਰ ਹੈ, ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਕਣਾਂ ਵਿਚਕਾਰ ਬਾਈਡਿੰਗ ਤੰਗ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੁੱਲ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਚਿਪਕਣ ਦੁਆਰਾ ਕੱਸ ਕੇ ਲਪੇਟਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ ਸਤ੍ਹਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੁਆਰਾ ਮਿਟ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਘੱਟ ਪੋਰ ਚੈਨਲ ਬਣਦੇ ਹਨ।ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਪਰਤ ਦੀ ਸਤਹ ਸੰਘਣੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਕੁਝ ਨੁਕਸਦਾਰ ਬਣਤਰ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।ਚਿੱਤਰ 6 (A1, A2) ਲਈ, mwnt-cooh-sdbs ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਖੋਰ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਪਰਤ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਵੰਡਿਆ ਹੋਇਆ ਪੋਰਸ ਬਣਤਰ ਹੈ।ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਮੂਲ ਹਿੱਸੇ ਦੇ ਛੇਕ ਤੰਗ ਅਤੇ ਲੰਬੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਚੈਨਲ ਡੂੰਘਾ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਚਿੱਤਰ 6 (B2, C2) ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਢਾਂਚੇ ਵਿੱਚ ਵਧੇਰੇ ਨੁਕਸ ਹਨ, ਜੋ ਕਿ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਟੈਸਟ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮੁੱਲ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੀ ਵੰਡ ਦੇ ਨਾਲ ਇਕਸਾਰ ਹੈ।ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਗ੍ਰਾਫੀਨ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਸਭ ਤੋਂ ਵਧੀਆ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ।ਇਹ ਇਸ ਲਈ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਦਰਾੜ ਦੇ ਫੈਲਣ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਰੋਕ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਰੱਖਿਆ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।

5. ਚਰਚਾ ਅਤੇ ਸੰਖੇਪ
ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ 'ਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਟੈਸਟ ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਦੇ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਦੁਆਰਾ, ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਸਿੱਟੇ ਕੱਢੇ ਗਏ ਹਨ:

(1) ਜਦੋਂ ਖੋਰ ਦਾ ਸਮਾਂ 19 ਘੰਟੇ ਸੀ, 0.2% ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ + 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਮੱਗਰੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਨੂੰ ਜੋੜਦੇ ਹੋਏ, ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ 2.890 × 10-6 A / cm2 ਤੋਂ ਘਟ ਕੇ 1.536 × 10-6 × 10-6 ਹੋ ਗਈ। cm2, ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਨੂੰ 11388 Ω ਤੋਂ 28079 Ω ਤੱਕ ਵਧਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਡੀ ਹੈ, 46.85%।ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਦੇ ਨਾਲ ਮਿਸ਼ਰਤ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਬਿਹਤਰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

(2) ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਡੁੱਬਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਧਾਤੂ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੋਟਿੰਗ / ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸੰਯੁਕਤ ਸਤਹ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਸਬਸਟਰੇਟ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨੂੰ ਰੋਕਦੀ ਹੈ।ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਪਹਿਲਾਂ ਘਟਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਫਿਰ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮਾੜਾ ਹੈ।ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਅਤੇ ਤਾਲਮੇਲ ਨੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨੂੰ ਰੋਕ ਦਿੱਤਾ।19.5 ਘੰਟੇ ਲਈ ਭਿੱਜਣ 'ਤੇ, ਨੈਨੋ ਸਮੱਗਰੀ ਵਾਲੀ ਪਰਤ ਦੀ ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 22.94%, 25.60% ਅਤੇ 9.61% ਘਟ ਗਈ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਚੰਗਾ ਸੀ।

6. ਪਰਤ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਵਿਧੀ
ਟੈਫੇਲ ਕਰਵ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਇਮਪੀਡੈਂਸ ਵੈਲਯੂ ਦੇ ਪਰਿਵਰਤਨ ਕਰਵ ਦੁਆਰਾ, ਇਹ ਪਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ ਕਿ ਗ੍ਰਾਫੀਨ, ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ਨਾਲ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਧਾਤ ਦੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਦੋਵਾਂ ਦਾ ਸਹਿਯੋਗੀ ਪ੍ਰਭਾਵ ਖੋਰ ਨੂੰ ਹੋਰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਿਚਪਕਣ ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਰਤ ਦਾ ਵਿਰੋਧ.ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 'ਤੇ ਨੈਨੋ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਹੋਰ ਪੜਚੋਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਪਰਤ ਦੀ ਸੂਖਮ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਨੂੰ ਦੇਖਿਆ ਗਿਆ ਸੀ।

ਚਿੱਤਰ 5 (A1, A2, B1, B2) ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਵਿਸਤਾਰ 'ਤੇ ਐਕਸਪੋਜ਼ਡ 304 ਸਟੇਨਲੈਸ ਸਟੀਲ ਅਤੇ ਕੋਟੇਡ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਵਸਰਾਵਿਕ ਦੀ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਚਿੱਤਰ 5 (A2) ਦਿਖਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਖੋਰ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤ੍ਹਾ ਖੁਰਦਰੀ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ।ਬੇਅਰ ਸਬਸਟਰੇਟ ਲਈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਡੁੱਬਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਕਈ ਵੱਡੇ ਖੋਰ ਟੋਏ ਦਿਖਾਈ ਦਿੰਦੇ ਹਨ, ਜੋ ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਬੇਅਰ ਮੈਟਲ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਘੱਟ ਹੈ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਕਰਨਾ ਆਸਾਨ ਹੈ।ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 5 (ਬੀ 2) ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਹਾਲਾਂਕਿ ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਖੋਰ ਵਾਲੇ ਖੋਰ ਚੈਨਲ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦੇ ਹਨ, ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਮੁਕਾਬਲਤਨ ਸੰਘਣੀ ਬਣਤਰ ਅਤੇ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਪ੍ਰਭਾਵੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਹਮਲੇ ਨੂੰ ਰੋਕਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਇਸ ਦਾ ਕਾਰਨ ਦੱਸਦਾ ਹੈ। ਐਲੂਮਿਨਾ ਵਸਰਾਵਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਅੜਿੱਕੇ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਸੁਧਾਰ.

mwnt-cooh-sdbs ਦੀ ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ, 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਅਤੇ 0.2% mwnt-cooh-sdbs ਅਤੇ 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ।ਇਹ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਚਿੱਤਰ 6 (B2 ਅਤੇ C2) ਵਿੱਚ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀਆਂ ਦੋ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਦੀ ਸਮਤਲ ਬਣਤਰ ਹੈ, ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਕਣਾਂ ਵਿਚਕਾਰ ਬਾਈਡਿੰਗ ਤੰਗ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੁੱਲ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਚਿਪਕਣ ਦੁਆਰਾ ਕੱਸ ਕੇ ਲਪੇਟਿਆ ਗਿਆ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ ਸਤ੍ਹਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੁਆਰਾ ਮਿਟ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਘੱਟ ਪੋਰ ਚੈਨਲ ਬਣਦੇ ਹਨ।ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਪਰਤ ਦੀ ਸਤਹ ਸੰਘਣੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਕੁਝ ਨੁਕਸਦਾਰ ਬਣਤਰ ਹੁੰਦੇ ਹਨ।ਚਿੱਤਰ 6 (A1, A2) ਲਈ, mwnt-cooh-sdbs ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਖੋਰ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਪਰਤ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਵੰਡਿਆ ਹੋਇਆ ਪੋਰਸ ਬਣਤਰ ਹੈ।ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਮੂਲ ਹਿੱਸੇ ਦੇ ਛੇਕ ਤੰਗ ਅਤੇ ਲੰਬੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਚੈਨਲ ਡੂੰਘਾ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਚਿੱਤਰ 6 (B2, C2) ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਢਾਂਚੇ ਵਿੱਚ ਵਧੇਰੇ ਨੁਕਸ ਹਨ, ਜੋ ਕਿ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਖੋਰ ਟੈਸਟ ਤੋਂ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮੁੱਲ ਦੇ ਆਕਾਰ ਦੀ ਵੰਡ ਦੇ ਨਾਲ ਇਕਸਾਰ ਹੈ।ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਗ੍ਰਾਫੀਨ, ਖਾਸ ਕਰਕੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਦੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਵਾਲੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਸਭ ਤੋਂ ਵਧੀਆ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ।ਇਹ ਇਸ ਲਈ ਹੈ ਕਿਉਂਕਿ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਦਰਾੜ ਦੇ ਫੈਲਣ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਰੋਕ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਰੱਖਿਆ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।

7. ਚਰਚਾ ਅਤੇ ਸੰਖੇਪ
ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ 'ਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਐਡਿਟਿਵਜ਼ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਟੈਸਟ ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਸਤਹ ਦੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਟ੍ਰਕਚਰ ਦੇ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਦੁਆਰਾ, ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਸਿੱਟੇ ਕੱਢੇ ਗਏ ਹਨ:

(1) ਜਦੋਂ ਖੋਰ ਦਾ ਸਮਾਂ 19 ਘੰਟੇ ਸੀ, 0.2% ਹਾਈਬ੍ਰਿਡ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ + 0.2% ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਮੱਗਰੀ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਨੂੰ ਜੋੜਦੇ ਹੋਏ, ਖੋਰ ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ 2.890 × 10-6 A / cm2 ਤੋਂ ਘਟ ਕੇ 1.536 × 10-6 × 10-6 ਹੋ ਗਈ। cm2, ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਨੂੰ 11388 Ω ਤੋਂ 28079 Ω ਤੱਕ ਵਧਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਡੀ ਹੈ, 46.85%।ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ, ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਦੇ ਨਾਲ ਮਿਸ਼ਰਤ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਬਿਹਤਰ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

(2) ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਡੁੱਬਣ ਦੇ ਸਮੇਂ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਧਾਤੂ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੋਟਿੰਗ / ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸੰਯੁਕਤ ਸਤਹ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੋ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਸਬਸਟਰੇਟ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨੂੰ ਰੋਕਦੀ ਹੈ।ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਪਹਿਲਾਂ ਘਟਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਫਿਰ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਸ਼ੁੱਧ ਐਲੂਮਿਨਾ ਸਿਰੇਮਿਕ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਮਾੜਾ ਹੈ।ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਅਤੇ ਤਾਲਮੇਲ ਨੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਨੂੰ ਰੋਕ ਦਿੱਤਾ।19.5 ਘੰਟੇ ਲਈ ਭਿੱਜਣ 'ਤੇ, ਨੈਨੋ ਸਮੱਗਰੀ ਵਾਲੀ ਪਰਤ ਦੀ ਬਿਜਲਈ ਰੁਕਾਵਟ ਕ੍ਰਮਵਾਰ 22.94%, 25.60% ਅਤੇ 9.61% ਘਟ ਗਈ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦਾ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਚੰਗਾ ਸੀ।

(3) ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੇ ਕਾਰਨ, ਇਕੱਲੇ ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬਾਂ ਨਾਲ ਜੋੜੀ ਗਈ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਖੋਰ ਹੋਣ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਵੰਡਿਆ ਹੋਇਆ ਪੋਰਸ ਬਣਤਰ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਮੂਲ ਹਿੱਸੇ ਦੇ ਛੇਕ ਤੰਗ ਅਤੇ ਲੰਬੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਚੈਨਲ ਡੂੰਘੇ ਹੋ ਜਾਂਦੇ ਹਨ।ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਵਾਲੀ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਖੋਰ ਤੋਂ ਪਹਿਲਾਂ ਸਮਤਲ ਬਣਤਰ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਕਣਾਂ ਵਿਚਕਾਰ ਸੁਮੇਲ ਨੇੜੇ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਕੁੱਲ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਚਿਪਕਣ ਦੁਆਰਾ ਕੱਸ ਕੇ ਲਪੇਟਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ।ਹਾਲਾਂਕਿ ਸਤ੍ਹਾ ਖੋਰ ਦੇ ਬਾਅਦ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੁਆਰਾ ਮਿਟ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਇੱਥੇ ਕੁਝ ਪੋਰ ਚੈਨਲ ਹਨ ਅਤੇ ਬਣਤਰ ਅਜੇ ਵੀ ਸੰਘਣੀ ਹੈ।ਕਾਰਬਨ ਨੈਨੋਟਿਊਬ ਅਤੇ ਗ੍ਰਾਫੀਨ ਦੀ ਬਣਤਰ ਦਰਾੜ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਰੋਕ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਦੀ ਸੁਰੱਖਿਆ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।